半导体生产过程中的温度控制

2024-01-01 07:14:39来源：久茂自动化（大连）有限公司阅读量：0

导读：

半导体生产过程中的温度控制

高速稳定的通过率

作为荷兰ASM公司的子公司，Levitech为半导体工业生产产品。产品实现半导体市场对小结构和一致性产品的要求，机器制造商必须实施新的传热方法，这需要更快的温度修正和更好的控制。那就是为什么Levitech公司要寻找一种替代方法在其产品上控制热处理过程。来自荷兰的Levitech公司找到了久茂与之合作。

制造过程

用于晶圆制造的反应器由两个石墨圆盘组成，它们被加热到适当的工艺温度，为了产生更好的结果，晶盘需要显示特定的特征。在这个过程中，用气体使晶圆在两个圆盘之间悬停而互不接触，必要温度使用Kanthal®加热元件才能达到1200摄氏度。

更高的效率

应用创新的传热方法有助于晶圆的快速加热和快速冷却。晶圆的两边都有一个均匀0.15毫米的开口确保非常有效的导热性。晶圆在几秒钟内被加热到石墨片的温度，它们由一个特殊的加热控制系统控制，这就是久茂的晶闸管功率控制器做到的。

JUMO TYA 201在每个温度阶段控制Kanthal®加热元件所需的电流和电压从而确保准确的温度变化。该系统使晶圆每次都在相同的温度下生产。

快速和准确控制对半导体产品是极其必须的

这就是为什么Levitech公司可以满足市场需求和在相同时间内可以增加出货量的原因。

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