狭缝挤出式涂布机粘度范围：1-20000cps应用衬底：玻璃， PET聚酯， 纸张幅宽： 90mm, 120mm, 300mm

多种薄膜沉积设备，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发等。详细介绍请登陆公司网页。http:www.cross-tech.com.c

台式磁控溅射仪该系统可以作为以下功能装置：1，研发级R&D镀膜设备，性能优异2，具备所有研发级别的镀膜要求3，高效的沉积速率，镀膜时间快4， 实验室中培训的工具

多功能磁控溅射仪，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发等。详细介绍请登陆公司网页。

金属有机化学气相沉积系统（MOCVD）其反应器的设计可以根据工艺的需要很容易提升到满足大直径晶片生产的需要。我们也能为客户设计以满足客户特殊工艺和应用的需要。系...

超高真空多功能薄膜制备系统此系统可以配置多种沉积方式（预留各种功能接口）,高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研. 高真空条件沉积模式（使用机械泵+分子泵，或冷凝...

有机分子束沉积系统电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etch...

在线量产型磁控溅射系统 在线量产型磁控溅射镀膜系统 高转换效率· 大容量吸收，电池可靠性长达10年抗辐射

离子束刻蚀系统离子抛光离子清洗等离子体灰化等离子体氧化、氮化表面改性 反应刻蚀 生物医药传感器

PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积该系统中的PECVD可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。标准配置射频（RF...

反应离子刻蚀机（美国产，高性价比）-聚合物或光阻的等温各向同性干刻-硅片或玻璃表面清洁-硅表面氧化去除

涂布机 / 胶印机 （研发型）粘度范围：1-20000cps应用衬底：玻璃， PET聚酯， 纸张幅宽： 90mm, 120mm, 300mm

电子束蒸发系统热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等...

磁控溅射系统专业的沉积设备制造商，为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案：电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OM...

基质辅助脉冲激光沉积系统The polymer material will then deposit on the substrate while the so...