PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积该系统中的PECVD可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。标准配置射频（RF...

反应离子刻蚀机（美国产，高性价比）-聚合物或光阻的等温各向同性干刻-硅片或玻璃表面清洁-硅表面氧化去除

涂布机 / 胶印机 （研发型）粘度范围：1-20000cps应用衬底：玻璃， PET聚酯， 纸张幅宽： 90mm, 120mm, 300mm

真空快速退火炉RTPRTA（快速热退火）； RTO（快速热氧化）；注入退火；扩散；化合物半导体退火；渗氮；渗硅； 结晶化与致密化；

匀胶机，旋涂仪其工作原理是高速旋转基片, 利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上, 厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同, 也和旋转速度及时间有关。

电子束蒸发系统热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等...

磁控溅射系统专业的沉积设备制造商，为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案：电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OM...

超声波喷涂设备FP-1400系列提供了3轴平台，是一个创新的可编程涂敷系统，为电路板所有的敷形涂敷提供了精确的运用。具有USI的超声喷涂技术, 在工业中的应用事...

深能级瞬态谱仪是半导体领域研究和检测半导体杂质、缺陷深能级、界面态等的重要技术手段！测试功能：电容模式、定电容模式、电流模式、（双关联模式）、光激发模式、FET...

匀胶机其工作原理是高速旋转基片, 利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上, 厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同, 也和旋转速度及时间有关。

优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。

脉冲激光沉积系统（PLD）靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定...

基质辅助脉冲激光沉积系统The polymer material will then deposit on the substrate while the so...

产品规格（PEEM）br成像模式: 热离子及光发射显微技术， 光谱成像及能量分析分辨率Resolution:观测视野: 2 - 150 µm初始压力:...

零件内表面粗糙度、缺陷、形貌测量仪加工过程的形状检测，应用于精密机械加工机轴、凸轮轴粗糙度测量,部件微孔隙内部结构表面检测。*可以做到精细结构内表面检测的系统，...

此系统是专业的薄膜在线厚度测试系统，广泛地应用于测试各种材料的薄膜，包括单层胶黏剂，液体/固体涂料涂层，多层复合塑料薄膜，半导体晶片，玻璃，陶瓷等。可以得到多层...

此系统专业用于晶片基底厚度，弯曲/平坦度，表面型貌，表面粗糙度检测。

该产品是一款价格适中、功能强大的膜厚测量仪器，近几年，每年的销售量都超过200台。根据型号不同，测量范围可以从10nm到250um，它Z高可以同时测量4个膜层中...

技术参数br■　粒径范围：0.5 – 20 µmbr■ 粒径分辨率：0.5 µmbr■　颗粒计数： 20,000ecbr■　大小：L50cm...

此系统不仅能够测定气溶胶颗粒（20µm）的粒径及浓度大小，还可测定测单颗粒气溶胶形状因子。因此，该仪器同常规的气溶胶粒径谱仪相比具有更高的精度及分辨率...