1600℃真空气氛炉采用双层风冷结构，30段程序控制器、移相触发，可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体陶瓷纤维材料，保温性能好，升温速率快，是大专院校、科研院所、工...

1600℃真空气氛炉采用双层风冷结构，30段程序控制器、移相触发，可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体陶瓷纤维材料，保温性能好，升温速率快，是大专院校、科研院所、工...

1500℃真空气氛炉是真空技术与热处理技术相结合的新型热处理设备，广泛用于高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新...

1500℃真空气氛炉是真空技术与热处理技术相结合的新型热处理设备，广泛用于高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新...

1200℃真空气氛炉*设计能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温，温场均匀等特点。可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该...

1200℃真空气氛炉*设计能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温，温场均匀等特点。可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该...

1300℃真空气氛炉是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等试验的理想设备，主要应用于陶瓷、冶金、电子、珠宝、玻璃、特种材料、...

1300℃真空气氛炉是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等试验的理想设备，主要应用于陶瓷、冶金、电子、珠宝、玻璃、特种材料、...

1400℃真空气氛炉由炉体、加热室、真空系统、充放气系统、风冷循环系统、电控系统等组成，是电子元器件、冶金、玻璃、新型材料及粉体材料真空条件下的热处理工艺*设备...

1400℃真空气氛炉由炉体、加热室、真空系统、充放气系统、风冷循环系统、电控系统等组成，是电子元器件、冶金、玻璃、新型材料及粉体材料真空条件下的热处理工艺*设备...

1700℃真空气氛炉为周期作业式电炉，供大专院校、科研院所、工矿企业做气氛保护中进行热处理加热之用，也可满足纳米氧化物的烧结处理。广泛应用于陶瓷，冶金，电子，玻...

1700℃真空气氛炉为周期作业式电炉，供大专院校、科研院所、工矿企业做气氛保护中进行热处理加热之用，也可满足纳米氧化物的烧结处理。广泛应用于陶瓷，冶金，电子，玻...

1000℃真空气氛炉可充入多种惰性气体，用于保护处理过程中的试验产品，广泛应用于事业单位、科研院所、和企业小批量生产，以及院校科研教学中涉及到的陶瓷，冶金，电子...

1000℃真空气氛炉可充入多种惰性气体，用于保护处理过程中的试验产品，广泛应用于事业单位、科研院所、和企业小批量生产，以及院校科研教学中涉及到的陶瓷，冶金，电子...