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一、设备用途:化学气相沉积炉主要用于碳化硅(SIC)及氮化硼(BN)等新材料的制备
一、设备用途:化学气相沉积炉主要用于碳化硅(SIC)及氮化硼(BN)等新材料的制备
一、设备用途:立式真空裂解炉主要用于硅化硅陶瓷、陶瓷复合材料等新材料的制备
一、设备用途:卧式真空裂解炉主要用于硅化硅陶瓷、陶瓷复合材料等新材料的制备
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