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  • 立式化学气相沉积炉

    一、设备用途:化学气相沉积炉主要用于碳化硅(SIC)及氮化硼(BN)等新材料的制备

    型号: 所在地:参考价: 面议更新时间:2022/6/10 17:40:03 对比
  • 卧式化学气相沉积炉

    一、设备用途:化学气相沉积炉主要用于碳化硅(SIC)及氮化硼(BN)等新材料的制备

    型号: 所在地:参考价: 面议更新时间:2022/6/10 17:40:03 对比
  • 立式真空裂解炉

    一、设备用途:立式真空裂解炉主要用于硅化硅陶瓷、陶瓷复合材料等新材料的制备

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  • 卧式真空裂解炉

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