C1-007/C1-008厌氧高温气氛炉C1-007用于电子无器件高温处理工艺，C1-008用于光刻工艺后段，光刻胶固化。

DNN430C/630C/460C/660C厌氧高温气氛炉氧浓度20ppm、高工作温度600℃的气氛炉，适用于无氧环境下的高温热处理。

LAI-3双门厌氧培养箱是一种可在无氧环境下进行细菌培养及操作的装置，它能提供严格的厌氧状态、恒定的温度培养条件和具有一个系统化、科学化的工作区域

LAI-3T厌氧箱由恒温培养室，厌氧操作室、取样室、气路及电路控制系统、箱架等部分组成。

LAI-3TX厌氧培养箱是一种可在无氧环境下进行细菌培养及操作的装置，它能提供严格的厌氧状态、恒定的温度培养条件和具有一个系统化、科学化的工作区域。

LAI-3T-N厌氧培养箱采用7吋大屏幕真彩触摸屏微电脑控制型，能准确直观地控制培养箱温度等参数。

LAI-3D厌氧培养箱由恒温培养室，厌氧操作室、取样室、气路及电路控制系统、箱架等部分组成。

LAI-3DT桌上型厌氧箱由恒温培养室，厌氧操作室、取样室、气路及电路控制系统、箱架等部分组成。

DTN430C/630C/450C/650C洁净厌氧高温气氛炉洁净度100级、氧浓度低于20ppm的气氛炉，主要应用于固化半导体晶圆等。

LAL厌氧培养系统由二氧化碳和恒温恒湿培养箱、取样室、厌氧操作室、气路及电路控制系统、箱架等部分组成。

DN410IC/610IC厌氧培养箱 可进行360℃高温耐热测试和热处理，适用温度范围广，温度控制准确度高，易操作，定值运行、程序运行、快速自动停止运行、自动停...