真空管式气氛炉

2022

06-06

23:20:05

 43

来源：化工仪器网

产品介绍：
真空管式气氛炉以掺钼铁铬铝合金电阻丝为加热元件，PID自动程序控温温控精度±1℃，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料。外形美观大方、结构设计合理，使用方便，安全可靠。
真空管式气氛炉产品用途：
主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
产品参数：

单温区尺寸：400mm
总温区长度：400mm*400mm*400mm*400mm总长1600mm
炉体结构：立式
额定温度：1200℃
工作温度：≤1100℃
加热元件：合金加热丝
炉管材质：高纯氧化铝
温控方式：智能化30段PID电脑可编程控制四区单独控温
温控保护：具有超温及断偶报警功能
热电偶：K型
炉膛材质：高纯氧化铝多晶纤维
加热速率：0-20℃/min
恒温精度：±1℃
均匀性：±2℃
炉壳结构：双层壳体带风冷系统
额定功率：16KW
供电电源：110V-480V 50/60HZ

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