能生产3nm!中科院成功研发全固态DUV光源技术:完全不同于ASML
中科院的固态DUV激光技术完全基于固态设计,由自制的Yb:YAG晶体放大器生成1030nm的激光,在通过两条不同的光学路径进行波长转换。- 2025-03-27 08:51:19 19002
- 全固态DUV光源技术光刻机
2024-03-16 14:19:46来源:仪表网 阅读量:96 评论
能生产3nm!中科院成功研发全固态DUV光源技术:完全不同于ASML
中科院的固态DUV激光技术完全基于固态设计,由自制的Yb:YAG晶体放大器生成1030nm的激光,在通过两条不同的光学路径进行波长转换。Intel宣布世界最先进光刻机投产!晶圆生产效率/可靠性翻倍
Intel宣布,ASML首批两台高数值孔径(High-NA EUV)极紫光刻机已经在其工厂投入生产。据悉,Intel利用先进光刻机已在一季内生产3万片晶圆,这些晶圆可以产出数千颗计算芯片。
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