纳米级高剪切胶体磨 返回列表页

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此款纳米高剪切胶体磨比普通的高剪切胶体磨的速度达到4-5倍以上，分散乳化均质研磨效果非常好。

纳米级高剪切胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

根据一些行业的特殊要求, SGN 在GM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款GMS2000超高速胶体磨，转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒径分布更小。

GMS2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

​ 三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

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