PL SERIES纳米压印系统
PL SERIES
Midas推出了一种台式、独立的纳米压印平台：PL系列PL 200/400/600。该平台提供了一个带有微定位装置的机械平台，用于安装纳米压印室、UV固化源和校准显微镜。它既可以作为纳米压印系统，也可以作为传统的掩模对准器，同时为您的整个压印过程提供可编程的自动控制。
•基板尺寸 PL 200:2英寸，PL 400:4英寸，PL 600:6英寸（尺寸较小，形状不规则）
•压印面积与晶圆尺寸相同
•模板尺寸 PL 200:2，1英寸，PL 400:4，3，1英寸，PL 600:6，4，2，1英寸
•压印压力1 psi标准
•包括模具/基板自动释放-无需特殊工具
•95%强度水平下的紫外线照射时间2~3分钟
•对准能力X、Y、Z和θ（精度2μm）
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