日本filmetrics膜厚测量系统F20
一种行业标准、低价、多功能的台式薄膜厚度测量系统，已在全球安装了 5,000 多台。它可用于从研发到制造现场在线测量的广泛应用。
F20基于光学干涉法可在1秒左右轻松测量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系数。
它还支持多点在线测量，并支持RS-232C和TCP/IP等外部通讯，因此可以通过PLC或上位机进行控制。
主要特点
支持广泛的薄膜厚度范围（1 nm 至 250 μm）
支持宽波长范围（190nm 至 1700nm）
强大的膜厚分析
光学常数分析（折射率/消光系数）
紧凑的外壳
支持在线测量
主要应用
| 平板 | 单元间隙、聚酰亚胺、ITO、AR膜、 各种光学膜等。 |
|---|---|
| 半导体 | 抗蚀剂、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等 |
| 光学镀膜 | 防反射膜、硬涂层等 |
| 薄膜太阳能电池 | CdTe、CIGS、非晶硅等 |
| 砷化铝镓（AlGaAs）、磷化镓（GaP）等 | |
| 医疗 | 钝化、药物涂层等 |
产品阵容
| 模型 | F20-UV | F20 | F20-近红外 | F20-EXR | F20-UVX |
|---|---|---|---|---|---|
| 测量波长范围 | 190 – 1100nm | 380 – 1050nm | 950 – 1700nm | 380 – 1700nm | 190 – 1700nm |
| 膜厚测量范围 | 1nm – 40μm | 15nm – 70μm | 100nm – 250μm | 15nm – 250μm | 1nm – 250μm |
| 准确性* | ± 0.2% 薄膜厚度 | ± 0.4% 薄膜厚度 | ± 0.2% 薄膜厚度 | ||
| 1纳米 | 2纳米 | 3纳米 | 2纳米 | 1纳米 | |
| 测量光斑直径 | 支持高达1.5 毫米或 0.5 毫米 最小 0.1 毫米（可选） | ||||
| 光源 | 氘· 卤素 | 卤素 | 氘· 卤素 | ||
* Filmometry 提供的测量 Si 基板上的 SiO2 膜时器件主体的精度。
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