ZMP960 晶体出现率分析仪 产品介绍 返回列表页

一． 结构原理

ZMP9 60 晶体出现率分析仪是工作原理是通过专用高分辨率 CCD 线性传感器和显微光学扫描平台，将颗粒图像信息采集下来并传输到计算机中，用专门的颗粒图像分析软件对颗粒图像进行分析。结合智能的背景分离及的颗粒边界搜索算法，将目标颗粒与背景分离，分析出各种测量参数，并通过显示器和打印机输出。

该仪器具有超大测量范围及高分辨率，同时具有直观、可视、准确、操作简单、测量参数全面等特点。能够同时测量颗粒粒度、形状及表面颜色的新型颗粒分析仪器。

二.产品介绍

ZMP960晶体出现率分析仪，可以直接对透明贴剂中析出的晶体进行扫描，按照规定扫描范围进行扫描一定的面积，将其中的晶体识别出来并做数量统计。软件可以内置公式得出晶体出现率。

三．性能指标

1. 测量范围：1μm ～ 100mm

2图像分辨率：900万像素

3.光学平台：100mm * 120mm

4 背景光源：反射光

五、测试数据展示