用于工业研究和生产领域的功能强大的光刻及键合对准机

MA/BA 4 代专业版系列是苏斯公司半自动光刻机的一个多面设备平台，应用很广泛。支持最小尺寸达 150 毫米或 200 毫米的基板。它的工具和选项众多，工艺参数可调整，因此具有的灵活性，既可用于科研、开发，也可用于生产工艺。MA/BA 4 代专业版的设计理念成熟，技术*，是开发未来技术的理想设备。它为微机电系统、高级封装、3D 集成、化合物半导体领域树立了新的。

MA/BA 4 代专业版系列可以便捷地集成到生产环境中，并且与苏斯公司的自动化设备兼容。因此，可便捷地实施从研发到生产的工艺转化。该系列提供*的、高度自动化的功能（工业标准）。自动结构识别、自动校准功能提高了工艺速度，同时降低了废品率。

高质量的光学和曝光系统、的校准技术，使 MA/BA 4 代专业版系列成为开辟新天地的理想工具。它具有各种微米、纳米结构复形压印技术作为支持。而且，改装非常简便，晶圆与晶圆的对准精度非常高，熔接键合简单，基板表面等离子处理准备妥当。

在光刻工艺中，只需对准器件晶圆同侧的结构（例如再布线层、微凸点 等），用顶部对准功能将掩模位置标记对准晶圆位置标记。 根据衬底的特性，这可以用存储的晶圆位置数据或者用两个现场照片 、SUSS MicroTec 开发的DirectAlign™ 直接对准技术实现。

我们的客户可以从中得到以下好处

• 掩模对准器*的对准精度
• 清晰、强大的图像识别功能，即使在对比度不理想的情况下