本设备采用钨丝作为发热元件的立式真空电阻炉，采用底部双丝杠进料设计，炉腔更为洁净，圆周加热、上下两地面辅热的加热方式，炉温更为均匀。本设备工作温度可达2100℃，有效工作区有φ400×400mm，φ200×200等多种尺寸，配备分子泵与直联泵二级真空系统，工作真空度可达5×10 Pa。主要用于金属化合物、透明陶瓷以及其他无机材料在真空或保护气氛中的制品烧结，也可用于金属器件的热处理工艺。

特色与优势

型式：立式高温、真空气氛炉


总电源
AC380V±10%，三租五线制，50Hz±1Hz


电力总消耗功率
约120k（400x400）;70kw{200×200）│


炉内有效工作区 φ400×400.φ200×200

加热元件
玛网加热器

隔热屏
织钼材质。全金属结构


温度
2100℃（在30分钟内）


工作温度 1900℃


温度均匀性≤±5℃


温度控制
智能温度控制，闭环PID可编氧曲线自动控温

温度控制
政左装糖效器模单（三控.-龙）


温度控制区
3区独立控制

程序控制
PLC温度可编辑控制器


操作方式
触要屏自动控制观场手建援作手机APP云程监控


升温速度
0-15℃/min


控温精度 ±1C

工作真空度
5×10-3Pa


空炉抽空时间
至工作真空度<30min（炉体干燥、洁净）
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炉体外壁温度 ≤45℃

设备占地面积
约4（L×5（B）×3（H）m以最终设计为准