1200℃低真空CVD系统简介
1200℃低真空CVD系统是由滑动式管式实验电炉，混气系统，真空及压力系统等组成。此系统烧结温度可达1200℃，通过滑动炉体来实现快速的升降温；配置不同的真空系统来达到理想的真空度；同时通过三路高精度质量流量计控制不同气体。是为石墨烯生长、研发的专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。
1200℃三路供气低真空度旋转CVD系统采用高纯石英制作炉管。旋转装置为风冷法兰，摩擦传动，倾角（0-15deg;）任意可调。管式炉三个温区分别由精密控温仪表独立控温，通过调节各个温区的温度，该管式炉可以在加热区内形成三段温度梯度或是形成较长的恒温区域。1200℃三路供气低真空度旋转CVD系统每个温区均可编辑30段升降温程序，同时有过热和断偶保护功能。炉管两侧法兰配有数字式真空计和机械式压力表，可以用来控制炉管内的气氛环境。
如果您需要保持物料的单粒结构（如在干燥或煅烧物料时），旋转管式炉是您的烧结设备。炉管持续不断的旋转运动和气氛保护的结合应用能使得管内物料搅拌混合获得均匀受热效果为您带来理想的处理结果。
1200℃低真空CVD系统主要技术参数：
| 炉体结构 | 整机采用SUS304不锈钢材质，流线型外观，断热式结构； 真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛，保温性能好 炉子底部装有一对滑轨，移动平稳 炉子可以手动从一端滑向另一端，实现快速的加热和冷却 支撑两端安装油压缓冲器 炉盖可开启，可以实时观察加热的物料 |
| 电源 | 电压：AC220V 50/60Hz；功率：4KW |
| 炉管 | 高纯石英管，高温下化学稳定性强，耐腐蚀，热膨胀系数极小 尺寸：Phi;60*1200mm |
| 法兰及支撑 | SUS304不锈钢快速法兰，通过用高温ldquo;Ordquo;型圈紧密密封可获得高真空 一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷 可调节的法兰支撑，平衡炉管的受力支撑 包含进气、出气、真空抽口针阀，KF密封圈及卡箍组合 |
| 加热系统 | 加热元件采用优质合金丝0Cr27Al7Mo2，表面负荷高、经久耐用 加热区长度：300mm 恒温区长度：150mm 工作温度：le;1150℃ 额定温度：1200℃ 升温速率：10℃/min |
| 温控系统 | 日本富士仪表，64段控温程序，可分步、分段 测温元件：N型热电偶 恒温精度：±1℃ |
| 混气系统 | 三路质量流量计：数字显示、气体流量自动控制 内置不锈钢混气箱，每路气体管路均配有逆止阀 管路采用不锈钢管，接口为Phi;6卡套 每路气体进气管路配有不锈钢针阀 通过控制面板上的旋钮来调节气体流量 流量规格：0~1SLM 流量精度：±1、5% |
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