电化学表面成像及图案化处理系统，由精密空间定位装置与带有微电流检测的双恒电位仪以及相关的应用软件组成。可应用于界面电子及离子转移、化学及生物传感、离子组学、细胞成像、药物释放、界面相转移催化、生物膜模拟、界面有机合成、微纳米制备及表面微加工等研究及应用领域中。

• 探针渐近、探针扫描等多种工作模式

• 电化学表面成像

• 表面图案化处理功能

• 双恒电位仪功能

• 内置多种电化学方法

• 交换工作电极功能

• 皮安级微电流检测

• 空间定位分辨率低至1.9nm

• 第二工作电极开路电位模式

• 紫外可见光纤光谱联用模式

• 带有USB接口的光学显微镜

机械性能         步进电机        压电晶体

移动方向          X/Y/Z          X/Y/Z

移动范围        50×50×50mm    95×95×95μm

定位分辨率        20nm           1.9nm

重复定位精度      2μm            30nm

zui高移动速度      2mm/s           NA

响应时间           NA             25ms

电学性能                          参 数

电位控制范围                      ±10V

槽压                              ±12V

zui大输出电流                      ±250mA

电流测量范围                      10pA ～ 250mA共11个量程

电流测量分辨率                    <10fA

电位控制分辨率                    0.1mV@±3.2V

数据采集速率                       1MHz

线性扫描速度                       1μV/s ～ 5000V/s

电位脉冲宽度                       0.00001s ～ 1000s

低通滤波器截止频率                 0.1Hz ～ 100KHz

参比电极输入阻抗                   >1000GΩ

第二电极电位控制范围               ±10V

第二电*输出电流               ±250mA

第二电极电流测量范围               10pA ～ 250mA共11个量程

第二电极电流分辨率                 <10fA

第二电极数据采集速率               1MHz

实验方法

探针渐近曲线（PAC）*、探针扫描曲线（PSCA、PSCP、PSCCC）*、电化学表面成像（ESIA、ESIP、ESICC）*、表面图案化处理（SPC）*、循环伏安法（CV）*、线性扫描伏安法（LSV）*、阶梯波伏安法（SV）*、塔菲尔曲线（TAFEL）*、开路电压-时间曲线（OCPT）、计时电流法（CA）*、计时电量法（CC）、差脉冲伏安法（DPV）*、常规脉冲伏安法（NPV）*、差分常规脉冲伏安法（DNPV）*、方波伏安法（SWV）*、交流（含相敏）伏安法（ACV）、二次谐波交流（相敏）伏安法（SHACV）、电流-时间曲线（I-t）*、差分脉冲电流检测（DPA）、双差分脉冲电流检测（DDPA）、三脉冲电流检测（TPA）、积分脉冲电流检测(IPAD)、控制电位电解库仑法（BE）、多电位阶跃方法（MPS）*、交流阻抗测量（IMP）、交流阻抗-时间测量（IMPT）、交流阻抗-电位测量（IMPE）、计时电位法（CP）、电流扫描计时电位法（CPCR）、多电流阶跃法（MCS）、电位溶出分析（PSA）、电化学噪声测量（ECN）、任意电压波形（AWV）*、可用于双恒模式

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