当前位置:中美合资合肥科晶材料技术有限公司>>CVD、PECVD设备>> 1200°C二通道混气高真空CVD系统-OTF-1200X-HVC
OTF-1200X--HVC是由OTF-1200X-单温区管式炉,二路质子混气系统和高真空机组组成。其zui高工作温度可达1200℃,极限真空度可达 to 10^-5 torr。混气系统可以对两种气体进行精确的混气,然后导入到管式炉内部。
技术参数
OTF-1200X系列 管式炉 | 壳体结构 |
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炉管 |
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功率 | 2.5KW | |
工作电压 | AC 208-240V 单相, 50/60Hz | |
加热元件 | Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo,(电阻丝表面涂有氧化锆涂层,zui大程度的延长加热元件的使用寿命) | |
工作温度 |
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加热速率 | 加热速率: 1~20°C/min 可编程 | |
加热区长度 |
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控温系统 |
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真空密封 |
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功率 | 100~110W | |
工作电压 | AC 208-240V , 50/60Hz | |
高真空机组 | 壳体 |
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抽气速率 |
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工作范围 | 1000 mbar to <1E-7 mbar | |
极限 | <1E-8 mbar (无泄漏) | |
质量流量控制器 | 壳体 |
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功率 | 18W | |
工作电源 | AC 208-240V, Single phase, 50/60Hz | |
质保期 | 一年质保期,相关耗材除外,如炉管密封圈加热元件等易耗件 | |
质量认证 | CE Certificate |
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