TXRF8-全反射X射线荧光分析仪-郑州泽铭科技有限公司

◇ 应用领域：
TXRF在元素分析领域内的应用现状和发展前景都是令人鼓舞的。它可以广泛用于地矿、冶金、化工、食品、生物、医药、环保、法检、考古、高纯材料等等各领域内的常量、微量、痕量元素分析测定，特别在半导体工业中的硅表面质量控制方面，有着不可替代的优势，目前已在上得到广泛应用。
地矿：金矿、铜精料和镍精料、萤石、长石、氧化锑
冶金：镍电解液、铜阳极泥、高冰镍中的贵金属、光谱纯Rh、金银首饰、铸铁、轴承
化工：柴油中的硫含量、各种催化剂、陶瓷釉料
环境保护：自来水、大气飘尘、污水污泥
生物：海洋动物牙齿和体液
医药：头发和指甲中的有益有害元素、丹参中的有害微量元素
食品：饮料中的元素
刑侦法医：现场样品鉴定
考古：青铜器等
材料：高纯石英杂质含量，KTP晶体注入Er的认定

主要特点

1. 多元素同时分析：一次可分析近30种元素；

2. 检出限低：
　　zui低检出限：pg级（10－12g）；
　　zui低相对检出限：ng/mL级（10－9）；

3. 灵敏度高：
　　采用了高灵敏度、高计数率的硅漂移（SDD）检测器
　　采用特殊的二次全反射光路使仪器在不同能量范围都能有较高灵敏度。

4. 测量元素范围广
　　可以从11号元素Na到92号元素U；

5. 样品用量少
　　μL、μg级；

6. 直接测量
　　粉末样品、悬浮液样品等有平面的样品都可直接进行分析，zui低检出限达到ng/g量级；

7. 测量时间短
　　一般在100秒～1000秒；

8. 安全稳定
　　使用功率小于0.5kW，无须大功率，安全可靠。

9自动化程度高，操作方便

10.应用领域广：适合于各种样品类型和应用领域；

技术参数

配置：
1. 光路系统：以光学玻璃为基体材料的基于全反射原理的双光路全反射系统，包括光路、狭缝限束光栏及密封件壳。
2. 光源系统：高压电源系统，双X射线管激发系统，水冷及控制系统
3. 数据获取系统：硅漂移探测器（SDD）、谱仪放大器、多道分析器
4. 机械调节系统：控制板卡，固态继电器组，步进电机及相关对X射线管和样品托运动机械系统和传感器
5. 计算机、打印机
6. 软件系统：获取软件、分析应用软件
7. 机柜
8. X射线屏蔽系统

主要特点

1. 多元素同时分析：一次可分析近30种元素； 2. 检出限低：
　　zui低检出限：pg级（10－12g）；
　　zui低相对检出限：ng/mL级（10－9）； 3. 灵敏度高：
　　采用了高灵敏度、高计数率的硅漂移（SDD）检测器
　　采用特殊的二次全反射光路使仪器在不同能量范围都能有较高灵敏度。 4. 测量元素范围广
　　可以从11号元素Na到92号元素U； 5. 样品用量少
　　μL、μg级； 6. 直接测量
　　粉末样品、悬浮液样品等有平面的样品都可直接进行分析，zui低检出限达到ng/g量级； 7. 测量时间短
　　一般在100秒～1000秒； 8. 安全稳定
　　使用功率小于0.5kW，无须大功率，安全可靠。 9自动化程度高，操作方便 10.应用领域广：适合于各种样品类型和应用领域；

技术参数

主要性能指标：
1.zui低检出限：pg级（10－12g）；
2.zui低相对检出限：ng/mL级（10－9）；
3.重复性：1%-3%（从常量到浓度为0.50mg/L-2.000mg/L）
4.稳定性：2%-4%（从常量到浓度为0.50mg/L-2.000mg/L）
5.单次可同时分析元素数量：近30种；
6.分析元素范围：Na-U
7.样品用量：μL、μg级；
8.定量方法：基本参数法；内标法；
9.测量时间：少于1000S
10激发功率：小于500W 配置：
1. 光路系统：以光学玻璃为基体材料的基于全反射原理的双光路全反射系统，包括光路、狭缝限束光栏及密封件壳。
2. 光源系统：高压电源系统，双X射线管激发系统，水冷及控制系统
3. 数据获取系统：硅漂移探测器（SDD）、谱仪放大器、多道分析器
4. 机械调节系统：控制板卡，固态继电器组，步进电机及相关对X射线管和样品托运动机械系统和传感器
5. 计算机、打印机
6. 软件系统：获取软件、分析应用软件
7. 机柜
8. X射线屏蔽系统