飞秒激光直写光刻系统 返回列表页

这款飞秒激光直写光刻系统,laser lithography system是专业为微纳结构光蚀刻而设计的激光直写光刻机。飞秒激光直写光刻系统基于多光子聚合技术（multi photon polymerization, mPP),适合市场上的各种光刻胶（photoresists），能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构,是的激光光刻机.

• 激光光刻机3D模型制备
• 直写光刻机直接激光刻划  
• 激光光刻机整套系统到货即可使用
• 激光光刻机提供100nm-10um的分辨率
• 直写光刻机超小尺寸

激光光刻机3D模型的制备
这套三维光刻机由激光微加工系统软件控制，简单的3D模型通过这种软件即可生成，对于比较复杂的3D模型，用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作，然后导入到三维光刻机的软件中，这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。

激光光刻机激光直接读写
这套激光光刻机由飞秒激光光源，精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先，待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成高质量表面的3D结构。<100nm的尺寸可自形成结构，200nm-10um尺寸的结构可以控制并重复，这套激光蚀刻机提供纳米尺度分辨率和对聚合物的广泛选择，从而可以适合微纳光学,微流体,MEMS,功能表面制作等各种应用.
与CAD设计等同的3D结构形成后，未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。

激光光刻机后续工序：
在所需的微纳结构形成后，它被浸入到几种不同的溶剂中，以除去蚀刻过程中留下的液态聚合物。激光光刻机全部过程都是自动化的，重要参数可以根据要求而设定：浸入时间,温度等.对于特殊的样品或加工对象，可以使用紫外光或干燥机处理。

应用

• Nanophotonic devices (3D photonic crystals)激光光刻机用于纳米光子器件（三维光子晶体）
• Microfluidics 三维光刻机用于微流控芯片
• Microoptics (lenses, structures on an optical fiber tip, etc.)三维光刻机用于微光学（光学端面微结构制作）
• Micromechanics 激光光刻机制作机微机械
• Micro-Opto-Electromechanical Systems (MOEMS) 激光蚀刻机制作微型光机电系统
• Biomedicine 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学