美国Filmetrics薄膜测厚仪中国总代理 返回列表页

美国Filmetrics薄膜测厚仪中国总代理
Filmetrics F20便携式膜厚测试仪
Filmetrics简介
世界*,经济有效的Filmetrics薄膜厚度测量系统,测量薄膜厚度仅需几秒钟。
Filmetrics 膜厚测试仪产品轻点鼠标就能测量1纳米到13毫米的薄膜厚度。几乎所有的材料都可以被测量。直观的设计意味着您能在几分钟内完成*个薄膜厚度测量！
1.只需要运行基于Windows的软件，连接Filmetrics设备，然后，开始测量。
2.方便地存储或输出详细测量资料。
3.快速地将我们的厚度测量系统与其它系统通过.NET软件整合。
每秒两个点薄膜测绘F20 薄膜厚度的测量系统
测量反射率和透射率
测量光斑小至1微米(μm)
每秒两个点薄膜测绘
自动晶圆处理系统
Filmetrics F20产品简介：
1  有五种不同波长选择(波长范围从紫外220nm至近红外1700nm)；
2  zui大样品薄膜厚度的测量范围是：3nm ～ 25um；
3  精度为好于0.1nm。
产品特性：
1 、操作简单、使用方便；
2 、测量快速、准确；
3 、体积小、重量轻；
4 、价格便宜。
Filmetrics F20产品应用：
1 、半导体行业: 光阻、氧化物、氮化物；
2 、LCD 行业: 液晶盒间隙厚度、 Polyimides；用f20来测量透明的蓝宝石上的光刻胶，ito，多层氧化硅氧化钛等薄膜厚度，该机操作简易，毫秒间就能测量出准确的数据。
3 、光电镀膜应用: 硬化膜、抗反射膜、滤波片。
Filmetrics F20的技术
我们通过分析光如何从薄膜反射来测量薄膜厚度。通过分析肉眼看不见的光谱我们能测量几乎所有超过100原子厚度的非金属薄膜。因为不涉及任何移动设备，几秒钟之内就能测出：薄膜厚度，折射率，甚至粗燥度！
其可测量薄膜厚度在1nm到1mm之间，测量精度高达1埃，测量稳定性高达0.7埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。
通过Filmetrics膜厚测量仪反射式光谱测量技术,zui多4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如 :
半导体工业 : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工业 : 间距 (cell gaps)，ito电极、polyimide 保护膜。
光电镀膜应用 : 硬化镀膜、抗反射镀膜、过滤片。
极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，Filmetrics提供以下型号以供选择:
F20 : 这简单入门型号有三种不同波长选择(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)为任意携带型，可以实现反射、膜厚、n、k值测量。
F30:这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头，同时测量三个样品，具紫外线区或标准波长可供选择。
F40:這型號安裝在任何顯微鏡外，可提供zui小5um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。
F50:這型號配備全自動XY工作台，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能，可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。
F70:仅通过在F20基本平台上增加镜头，使用Filmetrics的颜色编码厚度测量法（CTM），把设备的测量范围*的拓展至3.5mm。
F10-RT：在F20实现反射率跟穿透率的同时测量，特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。
PARTS：在垂直入射光源基础上增加70?光源，特别适用于超薄膜层厚度和n、k值测量。

高级膜厚测量仪系统F20

使用F20高级分光计系统可以简便快速的测量厚度和光学参数（n和k）。您可以在几秒钟内通过薄膜上下面的反射比的频谱分析得到厚度、折射率和消光系数。任何具备基本电脑技术的人都能在几分钟内将整个桌面系统组装起来。

F20包括所有测量需要的部件：分光计、光源、光纤导线、镜头集合和Windows下运行的软件。您需要的只是接上您的电脑。

膜层实例

几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括：

sio2（二氧化硅）   sinx（氮化硅）   dlc（类金刚石碳）photoresist（光刻胶）     polyer layers（高分子聚合物层）      polymide（聚酰亚胺） polysilicon（多晶硅）      amorphous silicon（非晶硅）

基底实例：对于厚度测量，大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量，需要一块平整的镜面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要进行处理使之不能反射。

包括：
silicon（硅）  glass（玻璃）  aluminum（铝）gaas（砷镓）  steel（钢） polycarbonate（聚碳酸脂）

polymer films（高分子聚合物膜）
应用

f20 使用高级仿真活动来分析光谱反射率数据。

标准配置和规格

美国Filmetrics薄膜测厚仪中国总代理 美国Filmetrics F-20 F-30 F-40等等价格好，货期短。

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