科研用小型真空钨丝烧结炉 设备用途：
本系列产品广泛应用于无机材料（如陶瓷密封件、氧化锆、氧化锌、二氧化铝等）、及金属材料（如硬质合金）在真空或保护气氛中烧结制备，也可用于对烧结环境有洁净要求的材料进行热处理。同时适用于大专院校、科研单位进行中试批量生产使用。
科研用小型真空钨丝烧结炉 设备参数：
1.设备总功率：25Kw；
2.电源电压：单相220V,50Hz
3.真空度：优于5×10E-4Pa
4.工作区尺寸：¢80*80
5.设计温度：2300℃
6.使用温度：0-2200℃
7.控温精度：±1℃
8.测温方式：热电偶自动进出+红外仪测温
8.真空泵组：飞越机械泵 +分子泵+管路阀门
9：真空腔尺寸：¢350×350
10：控制方式：PLC+触摸屏
科研用小型真空钨丝烧结炉设备配置
1.高真空腔体 1套
2.钨网发热体及金属隔热屏 1套
3.测温装置 1套
4.大电流变压器 1台
5.真空系统 1套
6.程序仪表 2件
7.PLC 1套
8.触摸屏 1套
9.复合真空机 1台
10.测温热电偶 2只
11.红外测温仪 1台
12.坩埚 1套
13.电气控制系统 1套
14.产品说明书合格证 1份
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