德国海德堡激光直写系统－DWL66激光直写光绘系统，是海德堡公司考虑到客户低成本投入，及增加与客户互动关系理念下所设计的机台，虽价格不高，但他仍然维持了高精密的光绘品质，在微影技术与光学领域的研究发展上都获得了客户相当的满意口碑。同时重接单到持续增加中，更证明了DWL66系统的设计开发理念，用*小的花费提升*高的附加价值。
技术参数：
加工零件尺寸：150X150mm
绘图头焦距 Write Lens | 10 mm | 20 mm | 40 mm | ||
*小线宽或间距 Minimum Feature | 0.6um | 1µm | 2.5 µm | 5 µm | 10 µm |
书写格网 Write Grid | 20nm | 40 nm | 100 nm | 200 nm | 400 nm |
CD均匀度 CD Uniformity | 80nm | 100 nm | 220 nm | 440 nm | 880 nm |
线宽均匀度 Line width Uniformity | 100 nm | 200 nm | 400 nm | 600 nm | 1000 nm |
线边粗糙度 Edge Roughness | 60 nm | 80 nm | 120 nm | 180 nm | 280 nm |
对准精度 Alignment Accuracy | 200 nm | 250 nm | 500 nm | 1 µm | 2 µm |
定位精度 Position Accuracy | 0.4 um | 0.6 µm | 1 µm | 1.5 µm | 2 µm |
读写时间 Writing time ( 80x | 70 hour | 19 hour | 3 hour | 0.9 hour | 0.3 hour |
Applications 应用范围
该激光图形发生系统用于涂有光刻胶的各种基片，玻璃，硅片，或其他平面材料。
RETICLE（分划板），ASICS（晶片），MEMS（微机电系统），SENSOR（传感器），
REFRACTIVE OR DIFFRACTIVE OPTICS(折射及衍射光学), MOEMS(微光机电),
MCMS, HYBRIDS, INTEGRETED OPTICS（集成光学）, µTAS，SAW ect.
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