一、技术参数

       典型应用行业：光学行业、微电子行业、精密铸造行业。

       用于硅单晶片、砷化镓片、碳化硅、蓝宝石晶片、半导体化合物晶片、硬盘盘片、芯片、宝石、石英、硬质玻璃、光学镜片等领域的研磨抛光。

（一）使用方法：

①工艺条件和物理指标：

       密度（g∕cm3）：1.38±0.02，PH=7.3±0.02，粘度（mPa.S）：＜10。

②操作流程：

       待洗研磨抛光工件→研磨机研磨抛光→清洗→进入下道工序。

③可原液使用，或用纯水稀释2-3倍后使用。

（二）注意事项：

       ①在使用本品时，不可混入其它药液和酸性、碱性物质；

       ②若不慎溅入眼中，立即用清水冲干净即可；

       ③使用本品的槽、箱在加入本品前必须清洗干净（把玻璃粉等物质清除干净），如果槽、箱中有其它残液,会影响本品性能；

       ④如果设备原来用的工作液已产生细菌、发臭，建议添加杀菌剂在研磨机内循环，以便管道系统内、磨盘等地方的细菌清洗干净；

（三）效果图对比：

（四）溶液维护：

       经验补加法：应定期补加或更换新液（建议每3-5天更换新液一次，具体视实际情况而定）。

（五）故障排除：

二、产品特点

       1、本品是由高分子润滑剂、极压抗磨剂、防锈剂、抗氧剂、螯合剂、消泡剂、杀菌防腐剂合成的研磨抛光液。适用于蓝宝石衬底与其他硬质材料的粗抛与精抛的平整化加工，加工速率高，表面平整度、粗糙度达到水平，具有加工效率高、使用寿命长的特点，且光洁度高，悬浮性强，易清洗，可以替代同类进口产品。通常只需配合研磨抛光设备使用，本品不含、氯化石蜡、亚硝酸盐、磷和重金属等受控物质。

       2、型号：2002蓝宝石研磨液

       3、保存与运输：25㎏∕桶塑料桶包装。储存于阴凉干燥处。按非危险品储运。保质期壹年。

       4、本品特点：

• 去除速率高，抛光效果好，抛光表面粗糙度好，光洁度佳无划伤；

• 本品有良好的冷却性与防锈性、润滑性、耐高温（高达1600-1800度）；

• 具有良好的防腐性与防锈性，对提高工件表面光洁度和延长研磨设备的使用寿命具有显著效果，本品配有螯合剂，故在研磨抛光过程中能有效加速循环液中碎屑等杂质快速沉淀，从而提高本品的耐用性；

• 本品无刺激性气味、无毒，对环境无污染；

• 分散性、渗透性能，耐磨性好，与传统抛光粉相比，本品操作简便、抛光表面易清洗、在抛光设备以及抛光垫上无沉积。

• 贮存时应避免曝晒，贮存温度为0-40℃，避免敞口长期与空气接触。