多晶硅清洗用超纯水设备 返回列表页

　　一、多晶硅清洗用超纯水设备概述

　　多晶硅清洗用超纯水设备以反渗透的出水水质作为原水，EDI新技术可以替代传统的离子交换装置，可以连续生产出10-18 MΩ.cm的超纯水。多晶硅清洗用超纯水设备采用的连续电除盐(EDI-Electro deionization)技术是水处理工业的一场成本革命，其特点是利用电而不是酸碱对树脂进行再生，所以非常经济实用，可以用有限的能源消耗获得稳定的纯水。

　　二、多晶硅清洗用超纯水设备优点

　　产水水质高而稳定。

　　连续不间断制水，不因再生而停机。

　　无需化学药剂再生。

　　设想周到的堆叠式设计，占地面积小。

　　操作简单、安全。

　　运行费用及维修成本低。

　　无酸碱储备及运输费用。

　　全自动运行，无需专人看护。

　　三、多晶硅清洗用超纯水设备应用范围

　　微电子行业：电解电容器生产、电子管生产、显像管和阴极射线管生产、黑白显像管荧光屏生产、液晶显示器的生产、晶体管生产、集成电路生产、电子新材料生产。

　　医药行业：医药无菌水生产口服液生产。

　　化学化工：超纯化学试剂生产化工新材料生产。

　　其它：贵金属冶炼、磁性材料生产、电子级无尘布生产、光学材料生产等。

　　四、多晶硅清洗用超纯水设备特点

　　为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等。

　　系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

　　五、多晶硅清洗用超纯水设备典型工艺流程

　　预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

　　预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)

　　预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM)(新工艺)

　　预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(新工艺)

　　预处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)

　　EDI技术是当今的脱盐技术。在电子、医药等行业水质净化、清洗、水质纯化以及废水处理有着广泛的应用。例如，在电子工业方面，可以作为多晶硅清洗用超纯水设备，与其它技术诸如电渗析、离子交换和蒸馏相比，具有能耗低、脱盐率高、除菌能力强和操作简单、维护方便的特点，大大节省了运行、维修成本。而且没有废水排放。反渗透和EDI技术，在当今已涉足了生产的众多领域。