- LOAD LOCK预真空进样室（可选）
- 前开门蒸发腔体
- 冷凝泵和干泵
- 三个电子枪
- zui大8"基片
- 基片旋转
- 基片偏压（可选）
- 离子源清洗基片（可选）
- 基片加热1000度（可选）
- 晶振沉积速率及膜厚控制
- 系统手动或自动控制
- 良好的薄膜均匀性和重复性
- 可沉积金属、半导体和绝缘材料
- 可沉积多层膜及合金薄膜
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德仪科技有限公司专业进口美国磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发和脉冲激光真空薄膜沉积设备，以及磁控溅射源/电源、电子束蒸发源、溅射靶材和蒸发材料等。十几年来，凭着的品质，*的技术和周到的技术服务，德仪公司的产品为中国的高校、科研院所及企业的薄膜沉积工作提供了有力的支持
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