日本DNK半导体行业用实验和研究的手动批量曝光机产品特点
MA-1200，MA-1400
- 这是一台用于实验和研究的手动批量曝光机，支持玻璃，晶圆，薄膜等。小批量生产的理想选择。
- 可以选择接触曝光（软/硬）和接近曝光。
- 支持z大500 mm x 500 mm的板。配备了光学系统，可根据应用和板子尺寸将超高压汞灯（500W，1kW，2kW，3.5kW）与各种镜子，特殊透镜，聚光镜等进行z佳组合。
MA-1200A
手动批量曝光机非常适合于高混合，小批量生产，实验和研究，并且可以进行稳定的自动间隙控制。
- 通过减少占用空间实现节省空间。
| MA-1400 | ||
面板尺寸 | z大200 x | 高达400 x 400mm | |
光源 | 超高压汞灯：500W或1kW | 超高压汞灯：2kW或3.5kW | |
尺寸和重量 | 车身尺寸 | 宽12x深1100 x高1725毫米 | 宽1440 x深1590 x高1882毫米 |
| 体重 | 400公斤 | 400kg（包括干净的围栏） |
| 光源重量 | -- | 250公斤 |
选项 | 支持特殊的工作尺寸，例如干净的围栏，背面对准，硬接触（真空接触类型），自动对准，破裂的基板（需要咨询） | ||
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晶圆尺寸 | ø2“〜ø6” | |
光源 | 超高压汞灯：500W或1kW | |
尺寸和重量 | 车身尺寸 | 宽850 x深1150 x高1665毫米 |
| 重量 | 400公斤 |
选项 | 背面对齐，自动对齐，木板破裂，条形码读取器和LOG存储支持（需要咨询） | |