珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司
初级会员 | 第1年

021-80292915

当前位置:首页   >>   资料下载   >>   珀金埃尔默ICP-MS测定硅晶片中的杂质(Mo 和 Cd)

珀金埃尔默ICP-MS测定硅晶片中的杂质(Mo 和 Cd)

时间:2020-12-31阅读:143
分享:
  • 提供商

    珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司
  • 资料大小

    1.3MB
  • 资料图片

  • 下载次数

    11次
  • 资料类型

    PDF 文件
  • 浏览次数

    143次
点击免费下载该资料

由于许多重要的待测元素在使用电感耦合等离子体 质谱仪(ICP-MS)分析时会受到等离子产生的分子 和同质异位素的干扰(如:ArO+,ArH+,和Ar+), 因此对许多重要的待测元素的分析都很困难,这进 一步增加了分析硅杂质的难度和复杂性。通过向通 用池中通入适当的低流量反应气和使用*的动态 带通调谐(DBT)的功能,就能够在离子束进入四 级杆质谱前用化学方法将干扰去除,而这两个功能 都是PerkinElmer公司的NexION® 300 ICP-MS所兼具 的。

 

NexION 300 ICP-MS的另一个优点是能够一直在 强劲的高温等离子体状况下运行,从而有效分解样品 基质。此外,NexION 300 ICP-MS能够在一次分析运 行中,同时包括使用反应模式(使用反应气)分析和 使用标准模式(不使用反应气)分析的元素,这就不 需要分析两次样品或使用两种不同的等离子条件。仪 器的软件可以将两种模式(反应模式和标准模式)得 到的结果合并,并在一份报告中打印出来。

会员登录

×

请输入账号

请输入密码

=

请输验证码

收藏该商铺

X
该信息已收藏!
标签:
保存成功

(空格分隔,最多3个,单个标签最多10个字符)

常用:

提示

X
您的留言已提交成功!我们将在第一时间回复您~
拨打电话
在线留言